Ski-Race Academy Leitner og SKINION X® inngår et strategisk utviklingspartnerskap. Målet med samarbeidet er å videreutvikle prestasjonsorientert beskyttelsesbekledning innen alpin skisport. Utøverne ved Ski-Race Academy Leitner vil heretter bli utstyrt med SKINION X® Protective First Layer og gi kontinuerlig tilbakemelding fra trening og konkurranse.
Videre regnes den som en av de ledende institusjonene innen europeisk ungdomsskisport. Under ledelse av Christian Leitner forberedes utøvere målrettet på verdenscupen. Prestasjonsdata fra dette miljøet flyter nå systematisk inn i Skin Performance Lab – SKINION X®s forsknings- og utviklingsplattform.
SKINION X® setter en ny standard innen alpin beskyttelsesbekledning med sine Protective First Layers. Produktene kombinerer beskyttelse mot hudslitasje og kutt i første lag med høy bærekomfort, pusteevne og bevegelsesfrihet. Grunnlaget er H-PEA® høyytelsesfiber-modulen samt H3D® strikkearkitektur, som reduserer trykk- og friksjonspunkter målrettet. Målet med samarbeidet er å videreutvikle den tekstile beskyttelsesteknologien under reelle høyytelsesforhold. Dette inkluderer:
• Reduksjon av hudslitasje og friksjon under høyhastighetstrening
• Forbedring av det termiske og fuktighetsrelaterte mikroklimaet
• Analyse av sonebelastning og bevegelsesintensitet i løp
• Overførbarhet til serieproduksjon for sportslige og profesjonelle ekstreme bruksområder
Uttalelse Christian Leitner: "For våre utøvere teller hver minste detalj – komfort, bevegelsesfrihet og fremfor alt sikkerhet. Samarbeidet med SKINION X® gjør det mulig for oss å gripe inn akkurat der sporten krever alt av kroppen. Dette er en reell merverdi for utviklingen av unge skiløpere." Uttalelse Leif Heppner, CEO Heppner Apparel Gruppe: "Skin Performance Lab er designet for å videreutvikle tekstil beskyttelsesteknologi i reell toppidrett. Tilbakemeldingene fra treningen ved Skirace Academy Leitner har direkte innflytelse på materiale, konstruksjon og sonearkitektur i våre produkter. Dette partnerskapet samler utvikling og anvendelse på ett punkt."
