Ski-Race Academy Leitner og SKINION X® indgår et strategisk udviklingspartnerskab. Målet med samarbejdet er at videreudvikle præstationsorienteret beskyttelsesbeklædning inden for alpin skiløb. Atleterne fra Ski-Race Academy Leitner vil derfor med det samme blive udstyret med SKINION X® Protective First Layer og levere kontinuerlig feedback fra træning og konkurrence.
Den betragtes fortsat som en af de førende adresser inden for europæisk ungsport. Under ledelse af Christian Leitner forberedes atleter målrettet på World Cup. Præstationsdata fra dette miljø indgår nu systematisk i Skin Performance Lab – forsknings- og udviklingsplatformen fra SKINION X®.
SKINION X® sætter en ny standard inden for alpin beskyttelsesbeklædning med sine Protective First Layer. Produkterne kombinerer hudafskrabning og skæremodstand i First Layer med høj komfort, åndbarhed og bevægelsesfrihed. Grundlaget er H-PEA® højtydende fibermodul samt H3D® strikkearkitektur, som målrettet reducerer tryk- og friktionspunkter. Målet med samarbejdet er at videreudvikle den tekstile beskyttelsesteknologi under virkelige højtydende forhold. Dette omfatter:
• Reduktion af hudafskrabning og friktion under høj hastighedstræning
• Forbedring af det termiske og fugtrelaterede mikroklima
• Analyse af zonebelastning og bevægelsesintensitet under løb
• Overførbarhed til serieproduktion til sportslige og professionelle ekstreme anvendelser
Udtalelse Christian Leitner: "For vores atleter tæller hver eneste detalje – komfort, bevægelsesfrihed og frem for alt sikkerhed. Samarbejdet med SKINION X® giver os mulighed for at starte præcis der, hvor sporten kræver alt af kroppen. Det er en reel merværdi for udviklingen af unge skiløbere." Udtalelse Leif Heppner, CEO Heppner Apparel Gruppe: "Skin Performance Lab er designet til at videreudvikle tekstil beskyttelsesteknologi inden for reel topsport. Tilbagemeldinger fra træningen hos Skirace Academy Leitner har direkte indflydelse på materiale, konstruktion og zonearkitektur af vores produkter. Dette partnerskab samler udvikling og anvendelse på et punkt."
